本篇文章718字,读完约2分钟
中国科学家在《自然纳米技术》上发表了一篇论文,称他们在制备单晶石墨烯方面取得了突破。通过调整和改进化学气相沉积(cvd),他们已经将石墨烯薄膜的生产速度提高了150倍。新的研究为石墨烯的大规模应用奠定了基础。
据《科技日报》8月11日报道,石墨烯是一种二维晶体材料,由只有一个原子厚度的碳原子组成。其优异的电气、光学和机械强度使其在电子、太阳能(000591,buy)电池、传感器和其他领域有许多潜在的应用。尽管需求巨大,但其制备速度缓慢,利用率一直徘徊在25%左右,成为制约其实际应用的瓶颈之一。目前,高质量石墨烯的制备方法主要是化学气相沉积法,除了剥离法、碳化硅或金属表面外延生长法。然而,用化学气相沉积技术制备单晶石墨烯薄膜仍然需要很长时间,而且制备一厘米见方的单晶石墨烯薄膜至少需要一天,这是非常缓慢的。
在这项新的研究中,中国北京大学和香港理工大学的研究人员开发了一项新技术,可以将过程从每秒0.4微米加速到每秒60微米,速度提高150倍。诀窍是直接向参与反应的铜箔中加入一点氧气。
研究人员称,在化学气相沉积过程中,氧化物衬底可以在高达800摄氏度的高温下释放氧气。氧气的持续供应提高了石墨烯的生长速度。他们通过电子光谱分析证实了这一点,但测量结果显示,尽管氧气被释放出来,但总量很小。研究人员解释说,这可能与在非常窄的空中氧化物衬底和铜箔之间的俘获效应有关,从而提高了氧的利用效率。在实验中,研究人员可以在5秒钟内生产出0.3毫米的单晶石墨烯。
研究人员表示,这项研究对石墨烯产业具有重要意义。通过这项技术,石墨烯的生产可以采用更高效的卷对卷工艺。产量的增加和成本的降低将进一步扩大石墨烯的应用范围,刺激其需求的增长。
标题:单晶石墨烯制备获突破 生产速度提高150倍
地址:http://www.hztxyl.com/hzxw/9408.html